フォトマスクとは、半導体製造工程で使われる部品の一つで、シリコンウエハーに回路パターンを転写する際の「原版」にあたるものです。ガラス基板の上に金属などで微細な回路が描かれており、光を当ててその影をウエハー上に焼き付けることで、半導体チップの回路が形成されます。

いわば半導体の設計図の役割を果たしており、その精度や品質は最終製品の性能に直結します。資産運用の観点では、フォトマスクを供給する企業は高度な技術力を持つため参入障壁が高く、半導体需要拡大の恩恵を受けやすい投資対象といえます。