EUV露光装置とは、半導体を製造する際に用いられる最先端の露光技術を搭載した装置のことです。EUVは「Extreme Ultraviolet（極端紫外線）」の略で、従来の光よりもはるかに短い波長を使うことで、シリコンウエハーにより細かく精密な回路パターンを描き込むことができます。

これにより、より小型で高性能な半導体チップの量産が可能になります。EUV露光装置は開発や製造が極めて難しく、世界でもオランダのASML社が事実上唯一の供給企業となっており、半導体産業全体の発展を左右する重要な存在です。資産運用の観点では、この装置を扱う企業や関連部品メーカーは技術的優位性が高く、長期的に成長が期待できる分野といえます。